高精度・高機能めっき処理
コスモブライト
コスモブライトの特徴
・清浄かつ平滑な鏡面が得られる
・表面に徹密な酸化皮膜を形成する為、素材よりも耐食性が向上する
・硫黄・クロム・ハロゲン物質を使用しないので、半導体・真空装置部品に対応できる
・
加工変質層・微小凹凸が除去されているため、異物が付着しにくい。
対応素材と処理サイズ
小物から最大処理サイズ500 ( W ）× 600 ( H ）× 200 ( D ) mm まで対応可能
純アルミA5052 、A6063 等素材に対応致します。
素材や加工履歴の違いによってコスモブライト後の外観が異なりますので、試作などで事前に品質確認して頂く事をお奨めします。
コスモブライトの表面特性
表面粗さが大幅に低減されます。
表面の平滑性が向上し、異物の付着を抑えます。
表面粗さ
| サンプル | アルミ素材 | コスモブライト | 化学研磨 |
| Ｒａ | 0.376μm | 0.127μm | 0.257μm |
光沢
素材の表面状態にも依存しますが、
低光沢（光沢値 10〜100 ) から
高光沢（光沢値 10D0 以上）の
光沢表面を得ることが可能です。
新アルミ電解研磨法を開発清浄で平滑な鏡面仕上げ可能
熊防メタルは独自の処理液を使用したアルミ電解研磨法を開発しました。
光沢値 1000 以上の高光沢・平滑な表面が得られるうえに、電解液は硫黄などの物質を含まないため、半導体製造装置などの真空部品にも対応可能です。
光沢値10〜1,000以上
独自開発した電解研磨液により、光沢値（測定角度 20 度）で 10〜100 の低光沢から、 1000 以上の高光沢表面を得ることが可能です。
研磨液は硫黄・クロム・ハロゲン物質を使用していないため、真空に引いた時に、硫黄分等を含む放出ガスが装置などを腐食することがなく、半導体製造装などの真空装置部品にも適用可能です。
電解研磨は研磨する対象物をプラス側にして電解液を介して直流電流を流し、金属表面を溶解させる事で、平坦化・光沢化の研磨効果を得る方法コスモブライト処理はアルミ素材の Ra（算術平均粗さ、カットオフ値 0 . 80mmで測定）が 0 . 376μmから0.127μmに、科学研磨の0.257μmを上回る、より平滑な表面を形成することができます。
また、表面の加エ変質層、微小な凹凸が除去されることで、異物が付着しにくいなどの特徴を持ち、表面に繊密な酸化皮膜を形成するため、素材のままよりも耐食性も増すことができます。
同社は半導体製造装置向け部品などクリーンな鏡面が求められるアルミ製品をはじめ、反射板が必要な照明機器、医療機器向けなどに適しています。
